鋼研納克直讀光譜儀，業(yè)界標(biāo)桿產(chǎn)品，中國(guó)直讀光譜儀領(lǐng)跑者！源于中國(guó)冶金行業(yè)的科研機(jī)構(gòu)鋼鐵研究總院，具有70年金屬分析檢測(cè)經(jīng)驗(yàn)，金屬檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)制定者。20年直讀光譜儀制造歷史，做更專業(yè)的光譜儀！直讀光譜儀國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)GB/T4336起草單位，央企品牌，上市公司，品質(zhì)服務(wù)！
直讀光譜儀可廣泛應(yīng)用于冶金、鑄造、機(jī)械、鋼鐵和有色金屬等行業(yè)，在汽車制造、航空航天、船舶、機(jī)電設(shè)備、工程機(jī)械、電子電工、教育、科研等領(lǐng)域的原料、零件、產(chǎn)品工藝研發(fā)方面都有廣泛的應(yīng)用?？捎糜?Fe、Al、Cu、Ni、Co、Mg、Ti、Zn、Pb、 Sn、Mn 等金屬及其合金的樣品分析。

由中國(guó)分析測(cè)試協(xié)會(huì)主辦的北京第分析測(cè)試學(xué)術(shù)報(bào)告會(huì)及展覽會(huì)（BCEIA2019）在國(guó)家會(huì)議中心隆重召開。鋼研納克檢測(cè)技術(shù)有限公司（簡(jiǎn)稱：鋼研納克）分析儀器、檢測(cè)服務(wù)、標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)、能力驗(yàn)證業(yè)務(wù)分三個(gè)展區(qū)亮相本次展會(huì)。
在本次展會(huì)上，鋼研納克攜國(guó)家重大科學(xué)儀器專項(xiàng)產(chǎn)品“電感耦合等離子體光譜儀、電感耦合等離子體質(zhì)譜儀”以及全新一代SparkCCD7000全譜火花直讀光譜儀參展，受到業(yè)內(nèi)的高度關(guān)注。大會(huì)程津培院士在中國(guó)分析測(cè)試協(xié)會(huì)張渝英的陪同下參觀鋼研納克展臺(tái)，并就國(guó)產(chǎn)分析儀器的發(fā)展提出了指導(dǎo)性的建議。

鋼研納克直讀光譜儀源于中國(guó)冶金行業(yè)的科研機(jī)構(gòu)“鋼鐵研究總院”，具有70年金屬分析檢測(cè)經(jīng)驗(yàn)，金屬檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)制定者，直讀光譜儀國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)GB/T4336起草單位。鋼研納克擁有國(guó)內(nèi)強(qiáng)大的光譜儀產(chǎn)品研發(fā)、生產(chǎn)、售后服務(wù)力量，生產(chǎn)出了“國(guó)產(chǎn)好儀器”火花直讀光譜儀Lab Spark系列，世界首創(chuàng)的OPA金屬原位分析儀系列，直讀光譜儀的領(lǐng)跑者SparkCCD系列，系列產(chǎn)品獲得了廣大用戶的認(rèn)可，在中國(guó)累計(jì)銷售4000余臺(tái)，是中國(guó)金屬材料光譜分析領(lǐng)域的引領(lǐng)者。
鋼研納克直讀光譜儀系列產(chǎn)品多次獲得、省部級(jí)重大獎(jiǎng)項(xiàng)，如國(guó)家科學(xué)技術(shù)進(jìn)步獎(jiǎng)二等獎(jiǎng)（金屬原位分析儀）、兩次榮獲中國(guó)分析儀器獎(jiǎng)項(xiàng)“BCEIA”金獎(jiǎng)，山東省科學(xué)技術(shù)進(jìn)步獎(jiǎng)一等獎(jiǎng)，中國(guó)儀器儀表行業(yè)協(xié)會(huì)自主創(chuàng)新金獎(jiǎng)，國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局中國(guó)專利優(yōu)秀獎(jiǎng)等獎(jiǎng)項(xiàng)。
在以院士為首的研發(fā)團(tuán)隊(duì)帶領(lǐng)下，鋼研納克充分發(fā)揮技術(shù)研發(fā)優(yōu)勢(shì)，承擔(dān)了大量的國(guó)家重大課題，包括國(guó)家重點(diǎn)研發(fā)計(jì)劃項(xiàng)目、工程院咨詢項(xiàng)目、工信部工業(yè)轉(zhuǎn)型升級(jí)（中國(guó)制造2025）資金項(xiàng)目、國(guó)家自然基金項(xiàng)目等。同時(shí)，公司檢測(cè)技術(shù)及其產(chǎn)品多次獲得、省部級(jí)重大獎(jiǎng)項(xiàng)，如國(guó)家科學(xué)技術(shù)進(jìn)步獎(jiǎng)二等獎(jiǎng)、中國(guó)儀器儀表行業(yè)協(xié)會(huì)自主創(chuàng)新金獎(jiǎng)、國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局中國(guó)專利優(yōu)秀獎(jiǎng)等。公司擁有專利130余項(xiàng)，擁有軟件著作權(quán)40余項(xiàng)。

光電光譜分析選用的分析線，必需符合下列要求。
直讀光譜分析時(shí)，一般都采用內(nèi)標(biāo)法。因內(nèi)標(biāo)法進(jìn)行分析時(shí)常采用多條分析線和一條內(nèi)標(biāo)線組成，常用試料中的基體元素為內(nèi)標(biāo)元素。組成的線對(duì)要求均稱，就是當(dāng)激發(fā)光源有波動(dòng)時(shí)，兩條線對(duì)的譜線強(qiáng)度雖有變化，但強(qiáng)度比或相對(duì)強(qiáng)度能保持不變。
如R表示強(qiáng)度比即 R=I1/I0
I1為分析線的強(qiáng)度，Io為內(nèi)標(biāo)線強(qiáng)度，表明I1和Io同時(shí)變，而R則不受影響。R與含量C之間有線性關(guān)系。
在光電直讀光譜分析時(shí)，有很多分析通道，要安裝許多內(nèi)標(biāo)通道有困難，因此采用一個(gè)內(nèi)標(biāo)線。但有人認(rèn)為再要提高光電光譜分析的準(zhǔn)確度還得采用不同的內(nèi)標(biāo)線，這還有待于光電轉(zhuǎn)換元件的小型化來(lái)解決。
光電法時(shí)，有時(shí)還用內(nèi)標(biāo)線來(lái)控制曝光量，稱為自動(dòng)曝光，也就是樣品在曝光時(shí)，分析線和內(nèi)標(biāo)分別向各自積分電容充電，當(dāng)內(nèi)標(biāo)線的積分電容器充電達(dá)到某一預(yù)定的電壓時(shí)，自動(dòng)截止曝光。此時(shí)分析線的積分電容器充電達(dá)到的電壓即代表分析線的強(qiáng)度I，并且亦即代表分析線的強(qiáng)度比R(因?yàn)镽=I1/Io，而此時(shí)Io保持常數(shù))這個(gè)強(qiáng)度I或強(qiáng)度比R就由測(cè)光讀數(shù)所表示。
現(xiàn)在一般采用計(jì)時(shí)曝光法較為普遍。