供應(yīng)國產(chǎn)ICP經(jīng)銷商
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溫度控制 控溫0.1度以內(nèi)
檢測器類型 大面積CCD光譜儀
測試范圍 165nm-950nm
光源類型 固態(tài)光源
品牌 鋼研納克
商品介紹
鋼研納克Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀儀器特點:
1. 分析流程全自動化控制,實現(xiàn)軟件點火、氣路智能控制功能;
2. 輸出功率自動匹配調(diào)諧,功率參數(shù)程序設(shè)定;
3. 優(yōu)良的光學(xué)系統(tǒng),先進(jìn)的控制系統(tǒng),保證峰位定位準(zhǔn)確,信背比優(yōu)良;
4. 極小的基體效應(yīng);
5. 測量范圍寬,超微量到常量的分析,動態(tài)線性范圍5—6個數(shù)量級;
6. 檢出限低,大多數(shù)元素的檢出限可達(dá)ppb級;
7. 良好的測量精度,穩(wěn)定性相對標(biāo)準(zhǔn)偏差RSD≤1.5%(5ppm),優(yōu)于國家A級標(biāo)準(zhǔn)(JJG768-2005);
8. Rf輸出功率的范圍750-1500W,輸出功率穩(wěn)定性小于0.1%;
9. 光電倍增管的負(fù)高壓可在0-1000V范圍內(nèi)獨立可調(diào),可根據(jù)不同元素的不同譜線單獨設(shè)置條件,和全譜儀器比較有更好的檢出限;
10. 納克儀器采用高屏蔽和良好接地保證操作者的安全;
11. 高精度的光室恒溫系統(tǒng),保證儀器優(yōu)良的長短期精度;
12. 多通道蠕動泵進(jìn)樣,保證儀器進(jìn)樣均勻,工作穩(wěn)定;
13. 使用鈸銅彈片和特殊處理的屏蔽玻璃,在吸收紫外線同時使儀器輻射小于2V/m(JJG768-2005規(guī)定小于10V/m)。
14. 具有較高的譜線分辨率,能分出Hg313.154和313.183nm雙線譜線,能分出鐵的四重峰。
15. 人性化的軟件設(shè)計,操作方便,終身免費升級。功能強大、友好的人機界面分析軟件,可在測定過程中,進(jìn)行數(shù)據(jù)處理,方法編制和結(jié)果分析,是真正的多任務(wù)工作軟件;該軟件數(shù)據(jù)處理功能強大,提供了多種方法,如內(nèi)標(biāo)校正、IECS和QC監(jiān)測功能等,可獲得的背景扣除點以消除干擾;對輸出數(shù)據(jù)可直接打印或自動生成Excel格式的結(jié)果報告。
供應(yīng)國產(chǎn)ICP經(jīng)銷商,上海國產(chǎn)ICP
鋼研納克Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀
1. 光路形式:Czerny-Turner型 單道掃描ICP光譜儀
2. 光室恒溫:(30±0.2)℃
3. 光柵類型:離子刻蝕全息平面光柵
4. 分辨率:不大于0.007nm
5. 刻線密度:3600g/mm
6. 高頻發(fā)生器震蕩頻率:40.68MHz 功率穩(wěn)定度:0.1%(長期25℃典型值)
7. 震蕩類型:自激式
8. 進(jìn)樣方式:蠕動泵進(jìn)樣 配有多種霧室(旋流霧室、雙筒霧室和耐氫氟酸霧室)
9. 霧化器:同心霧化器
10. 重復(fù)性:RSD ≤1.0%
11. 穩(wěn)定性:RSD ≤2.0%(2小時)
12. 冷卻氣:10-20L/min
13. 輔助氣:0-1.5 L/min
14. 載氣:0.4-1L/min
15. 尺寸:1550mm×759mm×1340mm(長×寬×高)
16. 重量:240公斤
供應(yīng)國產(chǎn)ICP經(jīng)銷商,上海國產(chǎn)ICP
鋼研納克Plasma 1500單道掃描ICP光譜儀可廣泛適用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、醫(yī)藥、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領(lǐng)域的元素分析。
1 單道掃描ICP光譜儀采用大面積高刻線密度平面全息光柵,Czerny-Turner結(jié)構(gòu)光學(xué)系統(tǒng),通光量大,分辨率高。
2 雙光柵設(shè)計,整個波長分布范圍內(nèi)均具有極高光譜分辨率,國產(chǎn)ICP光譜儀設(shè)計。
3 高效穩(wěn)定的固態(tài)射頻發(fā)生器,固態(tài)光源ICP光譜儀體積小巧,匹配速度快,確保儀器的高精度運行及優(yōu)異的長期穩(wěn)定性。
4 雙通道高靈敏PMT檢測器,寬動態(tài)范圍信號處理技術(shù),具有優(yōu)異的檢測能力。紫外光譜范圍內(nèi)自動切換使用紫外PMT。
5 功能強大的軟件系統(tǒng),簡化分析方法的開發(fā)過程,為用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗。
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由鋼研納克承擔(dān)的國家重大科學(xué)儀器設(shè)備開發(fā)專項“ICP痕量分析儀器的研制與應(yīng)用”取得重要進(jìn)展。本專項開發(fā)內(nèi)容包括二維全譜高分辨ICP光譜儀和ICP質(zhì)譜儀。目前二維全譜高分辨ICP光譜儀已解決了大面積CCD采集的瓶頸問題,接近于商品水平的產(chǎn)品樣機將于年內(nèi)完成;ICP質(zhì)譜儀第二代研發(fā)樣機已成功組裝和調(diào)試,采集到正確的譜圖,這一突破標(biāo)志著在第二代樣機上采用的自主設(shè)計的高真空系統(tǒng)、接口及離子傳輸系統(tǒng)以及射頻發(fā)生器系統(tǒng)3個關(guān)鍵、難點技術(shù)已經(jīng)實現(xiàn)原理攻克。為高質(zhì)量、按期完成項目任務(wù)和本單位新產(chǎn)品開發(fā)任務(wù)奠定了堅實的基礎(chǔ)。
-/hbahabd/-
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公司名稱 鋼研納克檢測技術(shù)股份有限公司
聯(lián)系賣家 文先生 (QQ:415905311)
電話 㠖㠗㠖-㠛㠒㠗㠚㠒㠗㠚㠚
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地址 北京市