氟化銨

英文名 Ammonium fluoride

分子式 NH4F

分子量 37.04

CAS號 12125-01-8

用于制備一種非離子型低表面張力的酸性氟化銨蝕刻液TFT 基板上設(shè)置有大量的薄膜、薄層，所以為了防止這些之間發(fā)生不希望的電短路，優(yōu)選將蝕刻后的基板的切斷側(cè)面即蝕刻輪廓 (profile) 均等地傾斜，且下方比上方寬，為鈍錐 (taper) 形狀。這是由于蝕刻輪廓為鈍錐形狀的情況下，所形成的 2 個以上的薄膜層之間的高度差會減少。蝕刻方法具有利用氣體的干式蝕刻和利用蝕刻液的濕式蝕刻，盡管濕式蝕刻具有缺點，但是其工序所需的設(shè)備投資費用低，無需將蝕刻環(huán)境維持在高真空狀態(tài)，對掩模和基板均有優(yōu)異的蝕刻選擇性。主要成分為氫氟酸（HF）和氟化銨（NH4F）的酸性氟化銨蝕刻液又稱為B.O.E. (Buffered Oxide Etch)蝕刻液，在半導(dǎo)體工業(yè)中也常廣泛使用于蝕刻無光刻膠護(hù)罩的氧化層。

CN201310677422.8提供一種不含金屬離子，不易殘留，且表面張力小，滲透性強(qiáng)的非離子型低表面張力的酸性氟化銨蝕刻液。本發(fā)明的技術(shù)方案為：一種非離子型低表面張力的酸性氟化銨蝕刻液，其特征在于，所述非離子型低表面張力的酸性氟化銨蝕刻液由下列組分組成，所述組分的質(zhì)量百分含量為：

氟化氫（HF）：         5~15%；

氟化銨（NH4F）：       20~40%；

添加劑：               0.01~0.1%；

去離子水               余量；

EINECS 235-185-9

密  度 1.11 g/mL

沸  點 65°C

熔  點 98°C

性 狀 白色結(jié)晶狀粉末，易潮解

溶解性 溶于冷水，溶液呈酸性，微溶于乙醇，受熱或遇溫水即分解，對玻璃有腐蝕性

用 途：

1、用作玻璃蝕刻劑、防腐劑、劑、纖維媒染劑等。

2、用作金屬表面的化學(xué)拋光劑、也用于提取稀有元素等。

3、用作分析試劑、掩蔽劑。

4、氟化銨也可用于鈦及硅片的蝕刻，用于鈦的蝕刻需要在蝕刻液中添加硝酸或鉻酐等氧化物質(zhì)以防止氫脆的發(fā)生。

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