京邁研3539  ITO靶材 氧化銦錫 磁控濺射材料 電子束鍍膜蒸發(fā)料 

【參數(shù)說明】

支持靶材定制，請?zhí)峁┌胁漠a(chǎn)品的元素、比例（重量比或原子比）、規(guī)格，我們會盡快為您報價??！ 

【產(chǎn)品介紹】

在化學上，ITO 是Indium Tin Oxides的縮寫。

作為納米銦錫金屬氧化物，具有很好的導電性和透明性，可以切斷對人體有害的電子輻射、紫外線及遠紅外線。因此，銦錫氧化物通常噴涂在玻璃、塑料及電子顯示屏上，用作透明導電薄膜，同時減少對人體有害的電子輻射及紫外、紅外。

在氧化物導電膜中，以摻Sn的In2O3  ITO  膜的透過率最高和導電性能最好，而且容易在酸液中蝕刻出細微的圖形，其中透光率達90%以上。ITO中其透光率和阻值分別由In2O3與SnO2之比例來控制，通常SnO2:In2O3=1:9。

氧化銦錫是一種混合物，透明茶色薄膜或黃偏灰色塊狀，由90%In2O3和10% SnO2混合而成，主要用于制作液晶顯示器、平板顯示器、等離子顯示器、觸摸屏、電子紙、有機發(fā)光二極管、太陽能電池、抗靜電鍍膜、EMI屏蔽的透明傳導鍍、各種光學鍍膜等。

【關(guān)于我們】

服務(wù)項目：靶材成份比例、規(guī)格、純度均可按需定制?？蒲袉挝回浀礁犊睿|(zhì)量保證，售后無憂！

產(chǎn)品附件：發(fā)貨時產(chǎn)品附帶裝箱單/質(zhì)檢單/產(chǎn)品為真空包裝

適用儀器：多種型號磁控濺射、熱蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)設(shè)備 

質(zhì)量控制：嚴格控制生產(chǎn)工藝，采用輝光放電質(zhì)譜法GDMS或ICP光譜法等多種檢測手段，分析雜質(zhì)元素含量保證材料的高純度與細小晶粒度；可提供質(zhì)檢報告。 

加工流程：熔煉→提純→鍛造→機加工→檢測→包裝出庫

陶瓷化合物靶材本身質(zhì)脆且導熱性差，連續(xù)長時間濺射易發(fā)生靶裂情況，綁定背靶后，可提高化合物靶材的導熱性能，提高靶材的使用壽命。我們強烈建議您，選購陶瓷化合物靶材一定要綁定銅背靶！

我公司采用高純銦作為焊料，銦焊厚度約為0.2mm，高純無氧銅作為背靶。

注  ：高純銦的熔點約為156℃，靶材工作溫度超過熔點會導致銦熔化！綁定背靶不影響靶材的正常使用！

建議：陶瓷脆性靶材、燒結(jié)靶材，高功率下濺射易碎，建議濺射功率不超過3W/cm2。

我公司主營金屬靶材、陶瓷靶材、合金靶材，歡迎您的垂詢。