Nordson MARCH AP 系列批處理真空等離子系統(tǒng)提供了小、中、大三種不同真空腔體尺寸的選擇，無論客戶是希望用于R&D還是不同等級的生產(chǎn)環(huán)境，均可以給客戶提供工藝關聯(lián)的、控制連續(xù)的、可靠的、和可重復的真空氣體等離子處理系統(tǒng)。

AP 系列等離子處理機器適合于廣泛的等離子清洗、表面活化和粘接力增強應用。這些能力可用于半導體封裝工廠，微電子封裝和組裝，也可以用于醫(yī)藥和生命科學器件的生產(chǎn)。

等離子處理設備的特點和優(yōu)勢

? 帶觸摸屏的PLC控制器提供了直觀圖形界面和實時工藝呈現(xiàn)。
? 無論是直接等離子，還是下游等離子模式，彈性架板結構都可以應對各種不同的樣品載具。
? 13.56 MHz 射頻發(fā)生器有自動阻抗調(diào)諧，實現(xiàn)了成熟的工藝再現(xiàn)性。
? 專有的軟件控制系統(tǒng)生成工藝和生產(chǎn)數(shù)據(jù)用于統(tǒng)計制成控制。
? 批處理類型，每一個單元都包含在機器內(nèi)部，只需要較小的占地面積。
? 泵、腔體、電子控制、13.56 MHz射頻源都被封裝在一個箱體內(nèi)。

AP-300和AP-600等離子清洗機：AP-300和AP-600系統(tǒng)適合多種多樣的等離子清洗、表面活化和改善附著力等應用。這些能力可以用于半導體制造、微電子封裝和組裝、醫(yī)療設備和生命科學器件的制造等。

AP-300系統(tǒng)能夠適合廣泛的工藝氣體，包括氬氣、氧氣、氫氣、氦氣及氟化氣體。通過2個標準配置的氣體流量控制器控制用于較好的氣體控制。系統(tǒng)還可以選配2路氣體，即最多可達4路。

Nordson MARCH AP 系列批處理真空等離子系統(tǒng)提供了小、中、大三種不同真空腔體尺寸的選擇，無論客戶是希望用于R&D還是不同等級的生產(chǎn)環(huán)境，均可以給客戶提供工藝關聯(lián)的、控制連續(xù)的、可靠的、和可重復的真空氣體等離子處理系統(tǒng)。

AP 系列等離子處理機器適合于廣泛的等離子清洗、表面活化和粘接力增強應用。這些能力可用于半導體封裝工廠，微電子封裝和組裝，也可以用于醫(yī)藥和生命科學器件的生產(chǎn)。

等離子處理設備的特點和優(yōu)勢

? 帶觸摸屏的PLC控制器提供了直觀圖形界面和實時工藝呈現(xiàn)。
? 無論是直接等離子，還是下游等離子模式，彈性架板結構都可以應對各種不同的樣品載具。
? 13.56 MHz 射頻發(fā)生器有自動阻抗調(diào)諧，實現(xiàn)了成熟的工藝再現(xiàn)性。
? 專有的軟件控制系統(tǒng)生成工藝和生產(chǎn)數(shù)據(jù)用于統(tǒng)計制成控制。
? 批處理類型，每一個單元都包含在機器內(nèi)部，只需要較小的占地面積。
? 泵、腔體、電子控制、13.56 MHz射頻源都被封裝在一個箱體內(nèi)。

AP-300和AP-600等離子清洗機：AP-300和AP-600系統(tǒng)適合多種多樣的等離子清洗、表面活化和改善附著力等應用。這些能力可以用于半導體制造、微電子封裝和組裝、醫(yī)療設備和生命科學器件的制造等。

AP-300系統(tǒng)能夠適合廣泛的工藝氣體，包括氬氣、氧氣、氫氣、氦氣及氟化氣體。通過2個標準配置的氣體流量控制器控制用于較好的氣體控制。系統(tǒng)還可以選配2路氣體，即最多可達4路。

外形尺寸 AP-300
W (寬)x D(長) x H(高) – 占地面積 569(寬) x 869(進深) x 704(高) 毫米
凈重                                 221公斤 (487磅)
設備間隙                         右側、左側、前面–至少 569毫米，后面–至少254毫米
處理腔體
最大容量                         33.1 升
多鐘電極配置                         電源-接地、接地-電源、電源-電源
電極插槽數(shù)                         7
電極間距                         25.4毫米
電極
電源電極面積                         190(寬) x 330(進深) 毫米
多孔接地電極面積                 229(寬) x 330(進深) 毫米
懸浮電極面積                         190(寬) x 330(進深) 毫米
射頻電源
標配電源                         300 W
頻率                                 13.56 MHz
氣體控制
流量計                                 10, 25, 50, 100, 250 或 500 sccm(標準毫升每分鐘)
MFC最多可配置數(shù)量                 4

外形尺寸AP-600
W (寬)x D(長) x H(高) – 占地面積 569(寬) x 869(進深) x 704(高) 毫米
凈重 221公斤 (487磅)
設備間隙 右側、左側、前面–至少 569毫米，后面–至少254毫米
處理腔體
容量 50.4 升
多鐘電極配置 電源-接地、接地-電源、電源-電源
電極插槽數(shù) 7
電極間距 25.4毫米
電極
電源電極面積 330(寬) x 330(進深) 毫米
多孔接地電極面積                        368(寬) x 330(進深) 毫米
懸浮電極面積 330(寬) x 330(進深) 毫米
射頻電源
標配電源 600 W
頻率 13.56 MHz
氣體控制
流量計 10, 25, 50, 100, 250 或 500 sccm(標準毫升每分鐘)
MFC*多可配置數(shù)量 4

AP-1000等離子清洗機：搭配HTP(高產(chǎn)能)電極的AP-1000等離子系統(tǒng)是綜合了March擁有的電極設計和AP-1000的高可靠性及其優(yōu)良的工藝性。AP-1000 HTP充分利用了射頻等離子產(chǎn)生的活性離子，不僅縮短工藝時間而且提高處理均勻性。

AP-1000HTP配備4路氣體流量控制器，因工藝需求可選周不同的氣體包括氬氣、氫氣和氦氣等。
開槽式料盒可豎放于工藝腔內(nèi)，通常每個料盒最少可放置20條引線框，根據(jù)料盒尺寸大小，一爐可最多放置12個料盒。