有二氮化二鈦(Ti2N2)和四氮化三鈦(Ti3N4)兩種。二氮化二鈦為黃色固體。溶于煮沸的王水。遇到熱的則有氨放出。四氮化三鈦的性質與二氮化二鈦相似。

【制備或來源】可由鈦和氮在1200℃直接反應制得。涂層可由、氮氣、氫氣混合氣體通過氣相沉積法形成。二氮化二鈦由金屬鈦在900～1000℃的氮或氨中加熱而得。四氮三鈦由在1000℃的氨中加熱而得。

不同燒結溫度下，通過鐵基結合劑胎體對金剛石的把持力系數(shù)的變化可以看出：未鍍和鍍鈦金剛石的把持力系數(shù)隨燒結溫度的升高有相同的變化規(guī)律，在730°C時把持力系數(shù)。在不同的燒結溫度下，鍍鈦金剛石節(jié)塊的把持力系數(shù)均高于未鍍的，說明金剛石表面鍍鈦后，胎體對金剛石的把持能力提高，即胎體與金剛石間的結合強度增加。此外，把持力系數(shù)與燒結溫度之間沒有線性關系。

PVD鍍膜（離子鍍膜）技術的主要特點和優(yōu)勢

和真空蒸發(fā)鍍膜真空濺射鍍膜相比較，PVD離子鍍膜具有如下優(yōu)點：

1．膜層與工件表面的結合力強，更加持久和耐磨

2．離子的繞射性能好，能夠鍍形狀復雜的工件

3．膜層沉積速率快，生產(chǎn)效率高

4．可鍍膜層種類廣泛

5．膜層性能穩(wěn)定、安全性高（獲得FDA認證，可植入人體）

 PVD鍍膜（離子鍍膜）技術，其具體原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質與氣體都發(fā)生電離，利用電場的加速作用，使被蒸發(fā)物質及其反應產(chǎn)物沉積在工件上。