不銹鋼標(biāo)牌蝕刻

人造木材由于具有色彩鮮艷、圖案清晰和價(jià)格低廉等優(yōu)點(diǎn)，而廣泛應(yīng)用于建筑裝飾和家具等行業(yè)，制約人造木材生產(chǎn)的關(guān)鍵是模具板。利用蝕刻方法能夠在不銹鋼模具上雕刻出各種花紋圖案，提高所加工制件的裝飾和美觀性能。在技術(shù)分為機(jī)械、化學(xué)和電化學(xué)方法等[1～4]，其中化學(xué)蝕刻具有工藝簡單、操作方便、精度高和生產(chǎn)成本低等優(yōu)點(diǎn)，適合于批量生產(chǎn)，蝕刻深度為20～200μm?；瘜W(xué)蝕刻涉及材料科學(xué)、照相制版技術(shù)和金屬腐蝕與防護(hù)等。圖紋膜的致密性、耐蝕性和耐熱性尤為重要。不銹鋼拋光技術(shù)分為機(jī)械、化學(xué)和電化學(xué)拋光，其中化學(xué)拋光具有工藝簡單、操作方便、投資少、生產(chǎn)成本低和適應(yīng)性強(qiáng)等特點(diǎn)[5，6]，化學(xué)拋光實(shí)際是不銹鋼溶解和鈍化兩種過程相互競爭的結(jié)果，拋光質(zhì)量不僅與不銹鋼材質(zhì)、加工方法、制品大小和結(jié)構(gòu)以及表面狀態(tài)等有關(guān)，而且還與溶液配方和拋光工藝參數(shù)有關(guān)?；瘜W(xué)拋光溶液分為王水型、硫酸型、磷酸型和醋酸-雙氧水型等[7]，為了改善和提高拋光質(zhì)量而加入一定量添加劑，添加劑不銹鋼化學(xué)拋光分為浸泡、噴淋和涂膏等，浸泡又分為高溫、中溫和室溫拋光[9]。   目前，我國人造木材行業(yè)應(yīng)用的模具板主要是從歐洲進(jìn)口，不僅價(jià)格昂貴，而且修復(fù)困難，因此不銹鋼模具板的國產(chǎn)化勢在必行。明顯地﹐設(shè)備的維護(hù)就是更換破損件和磨損件﹐因噴嘴同樣存在著磨損的問題,所以更換時(shí)應(yīng)包括噴嘴。本文針對國產(chǎn)不銹鋼板材，研究了化學(xué)蝕刻、化學(xué)拋光和電鍍鉻工藝參數(shù)不銹鋼蝕刻標(biāo)牌 不銹鋼化學(xué)蝕刻配方和工藝參數(shù)為:fecl3660～850g/l、hcl(36%)8～20ml/l，添加劑

10～20g/l，溫度45～50℃。在此條件下，蝕刻速度為10～20μm/h，蝕刻時(shí)間根據(jù)圖紋具體深度而定。      2) 化學(xué)拋光配方和工藝參數(shù)為:硝酸(65%)15～40ml/l，鹽酸(36.5%)60～100ml/l，磷酸(85%)20～45ml/l，復(fù)合光亮劑1～5g/l，緩蝕劑0.2～2g/l，增稠劑2～20g/l，拋光溫度為25～40℃，拋光時(shí)間為1～5h。在此條件下，可以獲得光亮如鏡的拋光面。3) 電鍍鉻工藝:鉻酐230～270g/l，硫酸2.3～2.7g/l，三價(jià)鉻<5g/l，陰極電流密度50～60a/dm2，溫度55～60℃。鉻酐在電鍍鉻溶液中不僅起到穩(wěn)定鍍液的作用，而且對ph也有一定的緩沖作用，從而使得鍍層厚度可持續(xù)增加。金屬采用焊接，折彎，洗槽，車床，水切割，線切割，打磨，拋光，拉絲，電鍍，氧化，腐濁，烤漆。  

在印制電路工業(yè)的傳統(tǒng)知識里﹐特別是印制電路原料的供貨商們皆認(rèn)同﹐并得經(jīng)驗(yàn)證 實(shí)﹐氨性蝕刻液中的一價(jià)銅離子含量越低﹐反應(yīng)速度就越快。 事實(shí)上﹐許多的氨性蝕刻液 產(chǎn)品都含有價(jià)銅離子的特殊配位基（一些復(fù)雜的溶劑）﹐其作用是降低一價(jià)銅離子（產(chǎn)品具 有高反應(yīng)能力的技術(shù)秘訣）﹐可見一價(jià)銅離子的影響是不小的。 將一價(jià)銅由 5000ppm 降至 50ppm, 蝕刻速率即提高一倍以上。 由于在蝕刻反應(yīng)的過程中會(huì)生成大量的一價(jià)銅離子, 而一價(jià)銅離子又總是與氨的絡(luò)合 基緊緊的結(jié)合在一起﹐所以要保持其含量近于零是十分困難的。隨著標(biāo)牌蝕刻工藝的日臻完善、設(shè)計(jì)水平的提高、工藝設(shè)備的更新，蝕刻產(chǎn)品的精度會(huì)更上一個(gè)臺階，開發(fā)出更為廣泛的應(yīng)用市場。

同樣地﹐如果蝕刻液出現(xiàn)化學(xué)不平衡﹐結(jié)渣的情況 就會(huì)愈加嚴(yán)重。 蝕刻液突然出現(xiàn)大量結(jié)渣時(shí)﹐通常是一個(gè)信號﹐表示溶液的平衡出現(xiàn)了問 題, 這時(shí)應(yīng)使用較強(qiáng)的鹽酸作適當(dāng)?shù)那鍧嵒驅(qū)θ芤哼M(jìn)行補(bǔ)加。 另外, 殘膜也會(huì)產(chǎn)生結(jié)渣物。 極少量的殘膜溶于蝕刻液中﹐形成銅鹽沈淀。這表示前 道去膜工序做得不徹底, 去膜不良往往是邊緣膜與過電鍍共同造成的結(jié)果。在技術(shù)分為機(jī)械、化學(xué)和電化學(xué)方法等[1～4]，其中化學(xué)蝕刻具有工藝簡單、操作方便、精度高和生產(chǎn)成本低等優(yōu)點(diǎn)，適合于批量生產(chǎn)，蝕刻深度為20～200μm。