手機玻璃鏡片清洗劑的特點及應(yīng)用

一，手機玻璃清洗劑特點：

 手機玻璃清洗劑是一種表面活性助劑物，和光學清洗劑性質(zhì)基一樣，把產(chǎn)品放入超聲波清洗液中，通過超聲波使產(chǎn)品表面和清洗劑互相摩擦，把吸附在光學產(chǎn)品表面的物質(zhì)清洗掉，專業(yè)的手機玻璃清洗劑，表面活少于更強，清洗力度更大，滲透力度更強的特點。能輕松清除鏡頭后的研磨劑和研磨玻璃粉、落塵、氧化鈰、油性污垢，及微顆粒等，光學鏡片的微粒和油性污垢等。清洗手機蓋板不發(fā)蒙，對蓋板玻璃水印水痕、吸盤印有顯著的清洗效果，同時也能避免由水的硬度成分所發(fā)生的水滴斑等。手機蓋板因為面積比較大，超聲波超聲時中間的部位振動不到，對清洗劑的表面活性要求強，所以手機玻璃清洗劑都是堿性清洗，當清洗劑溫度升高時，堿性清洗劑表面活性更加強。

產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于： 電子、 精密五金、 通訊、汽車工程、航空航天、石油化工、軍事、科研、精密工程應(yīng)用元件 等行業(yè)。 公司所使用的材料以進口為主，能夠?qū)Ω鞣N不同的金屬材質(zhì)進行蝕刻加 工，主要有 SUS304、SUS301奧氏體鋼不銹鋼系列、鐵素體鋼材、馬氏體鋼、非 鐵金屬、合金材料、復合材料等各種特殊材料。厚度從0.01mm—2.0mm，公差可控制在±0.005mm。 本公司自成立以來，勵精圖治，精益求精，憑借全體員工的誠信、務(wù)實、 創(chuàng)新的企業(yè)精神， 在技術(shù)開拓創(chuàng)新方面躋身蝕刻行業(yè)領(lǐng)導地位。
光刻和蝕刻技術(shù)，用光膠、掩膜、和紫外光進行微制造，由薄膜沉積，光刻和蝕刻 三個工序組成。 ? 光刻前首先要在基片表面覆蓋一層薄膜，薄膜的厚度為數(shù)埃到幾十微米，稱為薄膜 沉積。然后在薄膜表面用甩膠機均勻地覆蓋上一層光膠，將掩膜上微流控芯片設(shè)計 圖案通過曝光成像的原理轉(zhuǎn)移到光膠層的工藝過程稱為光刻。 ? 光刻的質(zhì)量則取決于光抗蝕劑（有正負之分）和光刻掩膜版的質(zhì)量。掩膜的基本功 能是基片受到光束照射（如紫外光）時，在圖形區(qū)和非圖形區(qū)產(chǎn)生不同的光吸收和 透過能力。