分散劑與納米砂磨機(jī)的重要關(guān)系

在納米砂磨機(jī)實(shí)際運(yùn)行過程中，物料顆粒的粉碎首先主要是依靠高速運(yùn)動的磨珠間的碰撞、擠壓、剪切實(shí)現(xiàn)物料顆粒的粒度變小，比表面積增大。在粒度逐漸細(xì)化的過程中，顆粒在范德華力、雙電層靜電作用等影響下會重新團(tuán)聚。而傳統(tǒng)的臥式砂磨機(jī)可以被認(rèn)為是將密閉立式砂磨機(jī)的研磨缸橫臥后而成，增加了珠子的填充量，可提高研磨效率。也就是通俗的說研磨后又黏在一起！這樣會對生產(chǎn)品質(zhì)大打折扣，所以我們這個時候需要選擇分散劑來解決出現(xiàn)的問題。

      伴隨著一系列顆粒微觀上理化特性的質(zhì)變，會出現(xiàn)一個"粉碎？團(tuán)聚"的可逆過程。當(dāng)這正反兩個過程的速度相等時，便達(dá)到了粉碎過程中的動態(tài)平衡，則顆粒尺寸達(dá)到極限值。此時，進(jìn)一步延長粉碎時間是無用的。

      因?yàn)檫@時的機(jī)械力已不足以解聚團(tuán)聚體使顆粒進(jìn)一步破碎，只能用于維持粉碎平衡，并有可能造成更多小顆粒團(tuán)聚體，于是，所謂的"逆研磨"、"返粗"現(xiàn)象就會出現(xiàn)。該設(shè)備的研磨介質(zhì)一般分為玻璃珠、氧化鋯玻璃珠、氧化鋯珠等，除立式砂磨機(jī)選用普通2-3/3-4mm的玻璃珠外，其他設(shè)備均采用0。從某種程度上說，分散劑的恰當(dāng)選擇是解決"逆研磨"、"返粗"現(xiàn)象的行之有效的途徑。分散劑可以影響顆粒之間的范德華力、雙電層靜電力、溶劑化膜和吸附層的空間斥力諸作用。

在實(shí)驗(yàn)室砂磨機(jī)的管路中的焊渣、鐵銹等如果是在節(jié)流口、導(dǎo)向部位、下閥蓋平衡孔內(nèi)造成堵塞或卡住時，可能會使得閥芯曲面、導(dǎo)向面產(chǎn)生拉傷和劃痕嚴(yán)重的還會密封面上產(chǎn)生壓痕等。一般可采用使懸浮液通過有縫狀孔的篩網(wǎng)流出，孔的寬度為研磨介質(zhì)的1/2-1/3。這中阻塞問題經(jīng)常會發(fā)生在新投入運(yùn)營的系統(tǒng)中和大修之后的投入運(yùn)營初期階段，這也是一種比較常見的故障。遇此這種問題就需要卸開研磨機(jī)的外殼來進(jìn)行清洗工作，先將渣物除掉，然后再將密封面受到損壞還應(yīng)研磨；同時點(diǎn)砂將底塞打開，以沖掉從平衡孔掉進(jìn)入在閥蓋內(nèi)的渣物，并對管路進(jìn)行沖洗。投運(yùn)前，讓調(diào)節(jié)閥全開，介質(zhì)流動一段時間后再納入正常運(yùn)行。

納米砂磨機(jī)機(jī)器性能：

1、它具有通用性和易操作性。該設(shè)備由PLC控制，配有圖形仿zhen制作和觸摸屏（可選）。

2、用于大批量生產(chǎn)150 kg/h以上的產(chǎn)品，生產(chǎn)能力可達(dá)500 kg/h。

3、錐形研磨攪拌槽，實(shí)現(xiàn)良好的研磨。

4、自潔、高度分離環(huán)、有效直徑0.8~2.5mm磨削介質(zhì)。

5、加工面積小，封閉式研磨，減少污染。

納米砂磨機(jī)是一種新型的研磨機(jī)。加工條件變化很大，細(xì)度要求可以通過添加或減去研磨介質(zhì)進(jìn)行調(diào)整，所有者可以根據(jù)產(chǎn)品的性能要求對研磨設(shè)備進(jìn)行微調(diào)。用雙端機(jī)械密封，可采用小研磨介質(zhì)。所述材料與給料泵一起進(jìn)入研磨室。在強(qiáng)磨削過程中，棒銷和定子不斷發(fā)生在研磨介質(zhì)上，研磨介質(zhì)再作用于物料，物料得到研磨，在卸料口，由于密度不同，研磨介質(zhì)返回研磨腔，但在進(jìn)料泵壓力下，物料通過間隙分離器從研磨腔流出。